科研型真空式等离子处理设备主要为科研实验室、产品研发等过程中的验证型设备，设备应用了高真空下辉光放电原理，在高频的电场下，使得特殊的气体充能电离，形成密布均匀的等离子体，与待处理材料的表面发生物理性及化学性的综合反应，得到我们所需要的表面效果状态科研型真空等离子处理设备主要有以下特点

1、采用超高频、全自动阻抗放电匹配系统的优质等离子发生源，为等离子体的形成及稳定提高可靠的环境高效的能量;

2、工业 PLC 及触摸屏联合控制系统,搭配各种传感器及信号互联电气元件，实现了一键式全自动处理系统，高精度控制设备运行的全过程细节和参数;

3、多路气体通道的高精度气体质量流量控制器可以实现各种特种气体的定量输入，为科研实验过程的数据严谨性提供有效保障;

4、等离子处理设备为自主研发设计，可以根据客户的实际需求及产品的特殊性能进行匹配性的定制设计，包括设备外形、腔体材质及尺寸、腔体形征、电源种类、控制形式等，提升设备应用范围和使用功效

5、小型真空式等离子处理设备可以实现材料表面的去胶刻蚀、清洁活化、改性、退膜、涂层、金属还原等效果，满足产品研发制造过程中的各类表面特性研究和工艺优化提升。

1、科研实验室材料表面的改性:如矿物质表面微量氧化层的处理，石墨粉表面的亲水性提升，复合高分子材料(PP、PA、PE、ABS、PTFE等)的表面处理，提升表面粘接力。

2、晶圆光刻胶的去胶刻蚀

3、金属等材料表面的还原和氧化性反应实验。

4、医疗材料的表面亲水性提升，增强表面涂层结合力。

5、其他各类材料表面的特性改变及附着力提升等应用。